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等离子增强型化学气相沉积（PECVD）系统
在线咨询品牌： 型号： 未知
设备类型：行业专用仪器/仪表/设备, 机械专用仪器/设备, 真空获得及其应用设备(镀膜机、沉积系统、刻蚀机等)
1、化学镀膜，不均匀性≤3%。
2、4‘片*12，批。
3、真空，375℃工作温度。
实验项目 ：
Si3N4薄膜（沉积速率20nm/min）；
SiO2薄膜（沉积速率100nm/min）
