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场发射扫描电子显微镜
在线咨询品牌： 型号： 未知
主要用于材料表面的微观形貌的高分辨观测，配有EDS和EBSD可进行成分和材料构象分析；
浸没式肖特基Plus电子枪，将最大探针电流从200nA提高到了500nA；含有超高分辨的GBSH、GB模式对入射电子有减速，对释放的信号电子有加速作用，更可能获得高分辨、高信噪比的图像。广泛用于化学、物理、地质学、金属、高分子材料等领域的科研和教学。
1 、电子枪加速电压：0.01-30 KV连续可调；
2 、放大倍数：25X-1000,000X，放大倍数连续可调；
3 、分辨率：二次电子拍照0.7 nm (15KV)、0.7 nm (1KV)，背散射电子拍照 1.5 nm (1KV)。
仪器配有稳定的GB、GBSH模式；
仪器配有LED/UED/USD/BED探头；
仪器配有EDS和EBSD探头。
1、 二次电子及背散射电子的形貌分析；
2、 EDS对材料的成分分析；
3 、EBSD对材料的构象分析。
（二次电子，200元/样；背散射：400元/样；镀膜：80元/样；点扫描：200元/样；线扫描：280元/样；；面扫描：400 元/样；EBSD: 600 元/小时；SEM : 600元/小时）
1、测形貌及EDS的样品需进行喷金的导电处理，本身导电的除外；测定EBSD的样本需要进行表面处理；
2、拒绝接受磁性、放射性、挥发性、不符合生物安全标准及不耐电子束轰击类样品、以及易被电磁透镜吸引的粉末样品。
