J.A.Woollam的光谱椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性的光学测量设备。可测的样品包括大块材料、薄膜以及在平面基底上生长或沉积的多层结构。多层固体、液体、与固体相邻的液体以及与固体接触的气相等离子体的特性等都可以用这一技术来探测。 测量椭圆偏振光透过样品的相位和强度的比值大小，最终可得到该样品的厚度t、光学常数、表面均匀度、致密度。

光谱范围：245-1000nm；全光谱光谱测量间隔：1.6nm 补偿技术：采用旋转补偿技术 入射角： 计算机控制45度到90度连续自动可变，角度重复性0.01度 Z轴：Z轴（样品台高度）：计算机控制自动调节，最大行程20mm 样品台俯仰调节，配置内置四象限探测器辅助对准 分光及探测器：紫外-可见采用硅列阵探测器光纤光谱仪（245-1000nm） 测量时间：测量整个仪器标称光谱范围的测试时间，最快0.05秒，典型测试时间2-到5秒 参数测量范围：Δ（0-360度）；Ψ（0-90度） 直射测量正确性：Ψ：45+0.075度；Δ：0+0.05度（测量空光束，测量时间为10秒，所有测量波长点的95%满足） 厚度测量重复性：膜厚测量优于0.002nm(30次SiO2厚度测量的标准偏差，样品为带有自然氧化层的硅晶片)

基本应用：单、多薄膜折射率及膜厚测量，块才的折射率测量；相位延迟测量；
扩展应用：表面粗糙，界面混合、组分比、结晶度、折射率梯度分布、光学各项异性、带隙研究；
应用领域：半导体、光伏产业、平板显示、存储、生物、医药、化学、电化学、光学镀膜和保护膜、减反膜、透明导电膜、聚合物膜、自组装膜、光刻材料等。