磁控溅射Ti薄膜

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类别:试验检测

截止日期:2019-07-13 预算:面议 征集状态:已完结

通过磁控溅射方法在50×50的表面上进行纯Nb、Al薄膜的制备,薄膜厚度在1μm左右,要求镀膜均匀。

需求市场

发布日期:2019-06-25
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