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需求市场

MARKET DEMAND

等离子喷涂涂层制备（大气等离子喷涂）

科研设备

已完结

面议

试样尺寸：φ25.4mm*5mm的圆片，喷涂400μm厚的镍基涂层；试样不需要喷砂处理了，已经可以直接喷涂。轴承钢喷涂镍基粉末 +

状态：已完结

发布日期：2019-07-03

已收到方案（1）
测试量子点的粒度（纳米粒度和Zate电位分析仪）

科研设备

已完结

面议

1、碳量子点水溶液：可直接测试； 2、测量角度为173°和13°，进行碳量子点的整体粒径分布特征和分散液的电位值的测定； 3、测得溶液中碳量子点的粒径，得到碳量子的动态光散射DLS测定的粒径分布图

状态：已完结

发布日期：2019-06-28

已收到方案（1）
测试表面形貌和表面粗糙度

科研设备

已完结

面议

使用原子力显微镜，测试表面形貌和表面粗糙度扫描面积30*30μm，每个样测试3个区域；测出区域的表面粗糙度值，得出表面形貌图和粗糙度，

状态：已完结

发布日期：2019-06-28

已收到方案（1）
TC4残余应力测试

科研设备

已完结

面议

样品成分：Ti，Al，V，块状，沿样品加工表面测每50μm一个间隔深度往下测多个点位，通过测试获得沿深度方向数值变化趋势，拟用设备：X射线残余应力仪，急需！

状态：已完结

发布日期：2019-06-28

已收到方案（2）
步进光刻机

科研设备

已完结

面议

1: 基底：4/6 寸100 晶向晶圆，500~600um厚度，氧化层厚度300nm。2：加工工序：氧化硅上涂胶，光刻，然后刻蚀300nm氧化硅至Si 基底。3：光刻图形见掩膜设计GSD文件。0.5um 圆孔阵列。4：光刻胶厚度1um 左右，光刻效果在镜检下正常，无过显影或者显影不到位。6寸晶圆上，圆孔阵列基本能完整:，不能出现整正梯形或者倒梯形。5：刻蚀氧化硅需要CHF3等离子体，保证不发生横向刻蚀，也能保证光刻胶损耗较小，能维持后续的Si刻。 +

状态：已完结

发布日期：2019-06-25

已收到方案（1）
光纤激光器 2000W以上的功率

科研设备

已完结

面议

成分为Ni/WC/CNTs机械球磨的混合粉末；45钢 60*90*6mm的厚度的板材，观察宏观微观形貌，测试耐磨性能，硬度等。 +

状态：已完结

发布日期：2019-06-24

已收到方案（1）
高分辨率透射电镜测试钴酸镍、氮化碳

科研设备

已完结

面议

1、测试完毕需要打衍射图；2、高分辨率可以看到样品晶型；成分：钴酸镍、碳化钼，粉末状 +

状态：已完结

发布日期：2019-06-19

已收到方案（1）
测试硅片样品的光致发光（PL）光谱（荧光分光光度计）

科研设备

已完结

面议

激光加工后的单晶硅片，表面已制备微纳结构，为加工面为平面硅；厚度525微米，尺寸2厘米的硅片；想研究一下激光处理后硅表面的光致发光情况，测试波段200-1000nm. +

状态：已完结

发布日期：2019-06-13

已收到方案（1）
可以测微区的xrd

科研设备

已完结

面议

需要做微区XRD，测血管支架降解产物的物相分析；2mm厚薄片，里面镶嵌的丝径小于0.1mm +

状态：已完结

发布日期：2019-06-13

已收到方案（2）
DSC测高铝硅酸盐玻璃

科研设备

已完结

面议

观察整个样品从200-1650℃的热分析情况；成分：Mg，Al，Si，O；白色粉末。 +

状态：已完结

发布日期：2019-06-04

已收到方案（1）

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