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征集中
已采纳
涂覆有热控白漆的碳纤维复材板(某型热控白漆半球发射率测试)
试验检测
已完结
面议
碳纤维复合材料、有机/无机复合涂层(白漆主要成分有机硅、SiO2、ZnO);涂覆有热控白漆的一面为白色面;样品规格:100mm*100mm;实验结果要求:获得不同样品表面(白漆面)的半球发射率数据。测试过程应严格遵循测试规范。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-28
暂未收到方案
元素分析
试验检测
已完结
面议
g-C3N4 RA-C-P/Ni-Co LDH MC/ Ni-Co LDH;分析C N O H Co Ni;粉末 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-26
已收到方案
(1)
高温压缩试验机
试验检测
已完结
面议
主要含有Mo,W等成分;合金:1#、2#、3#、4#;1#和2#样品测试温度为1200℃;3#和4#样品测试温度为1400℃;每个压缩试样尺寸约为Ф3×4.5mm;高温下载荷估计可达到20000N左右;实验停止条件:1)样品断裂;2)真实位移量超过3mm;请收集测试后样品(无论最终是否断裂);室温下,强度和硬度较高。实验要求:有压缩曲线图,即有时间,力,位移,应变,应力等数据。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-26
已收到方案
(1)
步进光刻机
科研设备
已完结
面议
1: 基底:4/6 寸100 晶向晶圆,500~600um厚度,氧化层厚度300nm。2:加工工序:氧化硅上涂胶,光刻,然后刻蚀300nm氧化硅至Si 基底。3:光刻图形见掩膜设计GSD文件。0.5um 圆孔阵列。4:光刻胶厚度1um 左右,光刻效果在镜检下正常,无过显影或者显影不到位。6寸晶圆上,圆孔阵列基本能完整:,不能出现整正梯形或者倒梯形。5:刻蚀氧化硅需要CHF3等离子体,保证不发生横向刻蚀,也能保证光刻胶损耗较小,能维持后续的Si刻。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-25
已收到方案
(1)
磁控溅射Ti薄膜
试验检测
已完结
面议
通过磁控溅射方法在50×50的表面上进行纯Nb、Al薄膜的制备,薄膜厚度在1μm左右,要求镀膜均匀。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-25
已收到方案
(1)
光纤激光器 2000W以上的功率
科研设备
已完结
面议
成分为Ni/WC/CNTs机械球磨的混合粉末;45钢 60*90*6mm的厚度的板材,观察宏观微观形貌,测试耐磨性能,硬度等。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-24
已收到方案
(1)
用压汞仪测试黄土微结构
试验检测
已完结
面议
主要测试黄土样品的粒径分布,成分是SiO2 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-19
已收到方案
(1)
高分辨率透射电镜测试钴酸镍、氮化碳
科研设备
已完结
面议
1、测试完毕需要打衍射图;2、高分辨率可以看到样品晶型;成分:钴酸镍、碳化钼,粉末状 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-19
已收到方案
(1)
用扫描电镜测试 ITO 导电玻璃表面的聚合物薄膜
试验检测
已完结
面议
ITO导电玻璃上薄膜的微观形貌,需喷金处理。一批主要测试薄膜样品的表面形貌,重点观察含有纳米线,石墨烯纳米片区域及包覆聚合物颗粒部分的形貌,扫描倍数分别为:2000、5000、10000、20000倍。另一批重点观察聚合物薄膜的表面形貌,扫描倍数分别为:2000、5000、10000、20000倍。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-19
已收到方案
(1)
荧光粉测量子效率
试验检测
已完结
面议
测量荧光粉的内、外量子效率。 +
状态:已完结
发布日期:2019-06-14
已收到方案
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