先进的 DualBeam™ 可用于纳米尺度超高分辨率成像、分析和制造

主要优点

• 最佳的 Elstar™ Schottky 场发射 SEM 技术和

性能

• FEI 特有的 Tomahawk FIB，具备低至 500 V 的

卓越的低电压操作和高至 65 nA 的束电流性能

• 全新的差分抽取及 TOF 校正功能，可实现更

高分辨率的离子束成像、磨削和沉积

• 150 x 150 mm 高度精确、高度稳定的压力驱动

样品台

• 无与伦比的成像技术和解决方案，包括先

进的 Helios 二代探测器、流程监控、FEI

SmartSCAN™ 和 DCFI，有助于拍摄带电样品

图像

• 最全面且集成的原型制造能力套组、适用于

FIB 和 SEM 的 16 位图案生成器、高级制图特

征库以及范围广泛的气体化学和专业知识

• 最佳的超薄样品制备以及三维表征和分析

• 最先进的流程监控和端点检测能力

Helios NanoLab™ 600i 建立在 FEI 屡获大奖的 DualBeam™ 系列成功的基础之上，可

促进离子束、电子束、制图和各项功能的提升，以便实施实验室标准应用的纳米

级磨削、成像、分析和样品制备。

创新的 Elstar™ 电子镜筒构成 Helios NanoLab 卓越的高分辨率成像性能的基

础。Elstar采用多项无与伦比的技术，例如可实现更高热量稳定性的恒定功率透

镜、可实现更高探测线性和速度的静电扫描以及可实现各种条件下超清晰成像

的无与伦比的镜筒设计。改进的穿透透镜探测器 (TLD) 用于探测最高采集效率的

SE （二次电子）和轴 BSE （背散射电子），FEI 最新的先进探测器套组包括可伸

缩的固态背散射探测器和多分段 STEM 探测器（分别用于令人震撼的低电压 SE/

BSE 和 BF/DF/HAADF 成像），以及可选的 ICE 探测器用于最佳的 FIB-SE（聚焦离

子束 - 二次电子）和 -SI （二次离子）成像。

Tomahawk FIB 是 FEI 最新研发的离子镜筒，可确保 Helios NanoLab 600i 执行快

速、精确且可靠的磨削、制图和离子成像。Tomahawk 卓越的低电压性能可制造

出高分辨率 STEM 和原子探针显微镜所用的最优质超薄样品。它不仅具备卓越的

离子成像分辨率，而且具备集成的差分抽取和渡越时间纠正功能，交付更紧密的

束和更准确的扫描剖面，以便实施极其精确的磨削。由于 FEI 特有的超广范围的

束化学（气体注入）、16 位图案生成器和集成的 CAD、脚本和基于库的制图功

能，使得构建最复杂的纳米级结构成为可能。健全、精确的 FIB 切片以及高度精

密的压力驱动的样品台和卓越的 SEM 性能开启新一代自动软件的大门，可在无

人值守的情况下实现样品制备或三维特征分析。

Helios NanoLab 600i 装配改进的 xT 软件平台，可满足偶然用户（需熟悉仪器的健

全性和全面的接口）和 FIB 专家（依赖仪器的灵活性和扩展控制生成后期 SEM 和

FIB 作品）的易用需求。加入 Helios NanoLab 和 FEI FIB 科学家和技术人员社区，时

刻准备为促进 DualBeams 纳米界限的扩展而做出贡献。